北京捷造光电技术有限公司
HCPD500 空心阴极离子镀
所属分类：HCPD 系列离子镀系统
适合更大工件尺寸和沉积要求的离子镀设备，前门配置滑动门连接手套箱，后平开门方便维护保养，设备有更多的选项部件。适合中式产品验证和工艺调试，是钙钛矿背电极 TCO 低损伤实验室解决方案，可以反应生长优质金属氧化物。
产品说明
钙钛矿背电极 TCO 低损伤解决方案。
基于标准 450/500 平台，通过空心阴极放电系统，在大密度等离子环境下，蒸发沉积和反应生长金属氧化物材料，沉积过程材料离化率高，氧化物晶体再结晶质量好，是低损伤沉积TCO材料的实验室解决方案。
产品图片
HCPD500 空心阴极离子镀
HCPD500规格表
主要技术参数（HCPD500）
| 内容 | 参数规格 |
|---|---|
| 真空内腔尺寸 | 500×510×600 mm |
| 最大工件尺寸 | 210×210 mm |
| 薄膜均匀性 | ≤ 5% |
| 工件架 | 旋转公转 5–30 rpm，沉积倾角0-20°可调 |
| 工作压力\极限压力 | 1 ~ 5×10⁻² Pa \ ≤ 8×10⁻⁵ Pa |
| 空心阴极枪 | 放电电流最大 100 A |
| 气路单元 | MFC 3 路（Ar / O₂）+预留 1 路 |
| 水冷坩埚 | 24 ml，磁场聚焦 |
| 主放电电源 | DC 10 kW |
| 真空系统 | 分子泵 + 机械泵 |
| 控制系统 | 工控机 + 西门子 PLC，多级报警互锁 |
| 接口 | 前后开门，前门滑动门可连接手套箱 |
| 设备功率 | 380 V / 20 kVA |
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