产品 - 捷造光电

空心阴极离子镀是一种材料离化率高的PVD技术，常用来反应沉积金属氧化物或导电氧化物，由于工件不属于放电电极的一部分，同时工作在低压大电流放电状态，沉积过程对工件有较低的带电粒子轰击作用，适合在OLED、钙钛矿等敏感材料上沉积TCO等材料

采用450平台的经济型离子镀设备，前门配置滑动门连接手套箱，后平开门方便维护保养，设备简单易用，适合学校研究机构进行材料研究和开发，也是钙钛矿背电极 TCO 低损伤实验室解决方案，可以反应生长优质金属氧化物。

适合更大工件尺寸和沉积要求的离子镀设备，前门配置滑动门连接手套箱，后平开门方便维护保养，设备有更多的选项部件。适合中式产品验证和工艺调试，是钙钛矿背电极 TCO 低损伤实验室解决方案，可以反应生长优质金属氧化物。

大学实验室、科研机构、企业材料实验室常用薄膜沉积设备，主要有6-12英寸PECVD、450标准平台PVD等实验装备。

单室/多室全自动PECVD平台，工件6-12英寸标准硅片，集成气路柜、真空机械手传输、氮气封闭环境片盒。

小型 Inline PVD，单端/双端接口，兼容平面溅射阴极和空心阴极离子镀。

捷造的专用核心部件和仪器，广泛应用于光伏和真空镀膜设备，用于解决工艺制程中核心操作，这些部件包含等离子体发生、溅射阴极、蒸发源、压力控制阀、门阀、真空机械手、膜厚测量仪等。

CBV 系列型智能流导控制阀是泵端压力控制系统的核心部件，阀门集成了蝶形流导阀体、测量电路、闭环控制计算、通信和阀门驱动电路。内置的控制算法和高速驱动系统可以使系统压力快速达到设定值，并且具有最小的超调量。控制器内置阀体…

紧凑型高真空传输阀，用于产线 Load/Lock 和隔离通道。

北京捷造光电技术有限公司