北京捷造光电技术有限公司
产品说明
空心阴极和热阴极离子源，最大电流 50-150A，中低压工作电压，可用于离子束加热、反应离子辅助沉积等工艺制程。
在 PVD 工艺中，离子源可用于沉积前的基片清洗与活化，以及沉积过程中的离子束辅助，改善膜层致密度与附着力。
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离子源和离子枪
空心阴极和热阴极离子源，最大电流 50-150A，中低压工作电压，可用于离子束加热、反应离子辅助沉积等工艺制程。
在 PVD 工艺中，离子源可用于沉积前的基片清洗与活化，以及沉积过程中的离子束辅助，改善膜层致密度与附着力。
离子源和离子枪