所属分类：研发设备
小型磁控溅射系统，采用多个2~6英寸圆形磁控溅射阴极靶共溅射，兼容DC/RF电源，工件尺寸可大至250mm
钙钛矿背电极 TCO 溅射解决方案，反应沉积优质金属氧化物。
基于标准 450\500 平台，可与共蒸发源、溅射阴极组合，构成完整的钙钛矿/OLED 材料研究平台。
SMSS450 小型磁控溅射系统
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