研发设备

小型磁控溅射系统

JPE系列6"-12"PECVD

JPE系列6"-12"PECVD

单室/多室全自动PECVD平台,工件6-12英寸标准硅片,集成气路柜、真空机械手传输、氮气封闭环境片盒。

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JSP系列300mm PVD

JSP系列300mm PVD

小型 Inline PVD,单端/双端接口,兼容平面溅射阴极和空心阴极离子镀。

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SMSS450小型磁控溅射系统

SMSS450小型磁控溅射系统

小型磁控溅射系统,采用多个2~6英寸圆形磁控溅射阴极靶共溅射,兼容DC/RF电源,工件尺寸可大至250mm

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